小型高溫蒸鍍儀：KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄

公司是集研發、設計、制造、銷售為一體的新材料制備設備創新型企業，如今公司的產品已經遍布國內眾多實驗室及科學院校，科探儀器已經成為老師和同學信賴的品牌。公司以科技創新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發新型材料制備設備，奉獻于教育實驗和科學研究。經過長期的研發和不斷的技術積累，擁有材料制備、材料測試、材料運用等，相關技術10余項，為化學、物理、材料、電子等方面；新材料制備和研發領域的科學工作者們提供了精良的設備。公司通過和院校老師、同學強強聯合，形成了高效的信息技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！ 目前公司已研發生產科研儀器十多個系列，上百款產品，包括實驗電爐、高真空機組、智能供氣儀、二維材料制備CVD設備、等離子清洗機、小型磁控濺射儀、小型蒸鍍儀、石英管真空封口機、真空探針臺、燃料電池評價裝置等。主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源領域，物理特性及化學特性的研究，廣泛應用于各大院校及材料研究所。 公司與國內高校、科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發、我們秉承公司的發展理念，依靠長期實踐的技術經驗和嚴謹的研發能力、科學合理的生產工藝、精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心，期待與您的合作！

小型高溫蒸鍍儀：是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。

真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。

 

小型高溫蒸鍍儀

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

 

原樣品沒有鍍膜

 

115A 100秒 機械泵

 

115A 100秒 分子泵抽12分鐘

 

115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

小型高溫蒸鍍儀技術參數

控制方式	7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離	70-140mm
蒸發溫度調節	≤1800℃
支持蒸發坩堝類型	鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）

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