CCP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比CCP等離子體系統。作為一個多功能系統，它通過優化的系統設計與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，業的機械設計與優化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩定重復性佳。

沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產品開發、銷售與服務于一體的技術型企業，公司致力于提供專業的等離子表面處理系統，向用戶提供國內領先的等離子表面處理設備和優質專業的服務。 公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位，公司由長期從事等離子體應用技術研究開發、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業化專家聯合創建，提供一系列等離子體表面處理系統、等離子體刻蝕系統、常壓等離子清洗設備等，并與中科院上海應用物理研究所，復旦大學，中國科技大學，上?？萍即髮W，上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。 公司的愿景是成為全球等離子體應用領域的優質供應企業，用科研的沉淀和應用的創新，為中國的制造業崛起和全球化戰略貢獻一份力量。

CCP等離子刻蝕機WINETCH刻蝕系統通過電容耦合（CCP）方式產生高密度等離子體，按掩膜（例如光刻膠掩膜）圖形、實現對介質材料（例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx等）的選擇性刻蝕。

CCP系統主要由以下幾部分組成：反應腔室、下電 、噴淋頭（上電）、射頻電源、真空系統、預真空室、氣路系統、控制系統與軟件、配套附件等。

CCP等離子刻蝕機產品特點：

-刻蝕形貌好、工藝性能優越

-高選擇比、高刻蝕速率

-低擁有成本和消耗成本


CCP等離子刻蝕機技術參數：

晶圓尺寸：6/8寸兼容

適用工藝：等離子體刻蝕

適用材料：SiO₂，Si₃N₄，etc.
適用域:化合物半導體、MEMS、功率器件、科研等域

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