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KT--Z1650CVD 小型坩堝真空蒸鍍儀

鄭州科探儀器設備有限公司

會員指數：

企業認證：

價格：電議

所在地：河南鄭州市

型號：KT--Z1650CVD

更新時間：2024-07-01

瀏覽次數：681

公司地址：鄭州高新技術產業開發區西三環路289號6幢11單元3層73號

15136405012 邱迎迎(女士)

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產品簡介

KT—Z1650CVD是一款小型坩堝真空蒸鍍儀，也是臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金

公司簡介

鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料設備創新型企業，如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室及科學院校，科探儀器已經成為老師同學和信任的品牌。公司以科技創新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經過長期的研發和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術10余項，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師同學強強聯合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品，產品囊括實驗電爐 CVD供氣系統等離子清洗機小型離子濺射儀小型蒸鍍儀石英管真空封口真空探針臺半導體等。主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念，依靠嚴謹的技術研發能力，科學合理的生產工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

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產品說明

小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD

是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。

坩堝真空蒸鍍儀蒸發鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠

低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。

SHAPE \* MERGEFORMAT

編輯

以下是不同真空度不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

說明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771737832260197.png

原樣品沒有鍍膜

說明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732996198687.png

115A 100秒機械泵

說明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732840196319.png

115A 100秒分子泵抽12分鐘

說明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732684194803.png

115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

小型坩堝真空蒸鍍儀技術參數

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離	70-140mm
蒸發溫度調節	≤1800℃
支持蒸發坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）