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價格:電議
所在地:廣東 深圳市
型號:
更新時間:2011-12-27
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公司地址:深圳市南山區科技園中區科苑路24棟東三樓
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劉曙東(先生)
利方達(香港)有限公司于2002年創建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業的技術人員和經驗豐富的市場銷售人員,現已經發展成為由利方達(香港)有限公司,深圳市利方達科技有限公司,利方達科技北京辦事處組成 的,集真空產品研發,生產及貿易以及維修服務為一體的企業集團 。
| 用途:磁控濺射PVD鍍膜,氮化鈦(TiN)、氮碳化鈦(TiCN)、氮化鋯(ZrN)、氮化鉻(CrN)、氮化鋁鈦(TiAIN)、碳化鈦(TiC)等 | |
| 基材:不銹鋼,鋅合金,塑料 | |
| 應用:外殼,MP3外殼,數碼相機外殼,各種標牌的裝飾改性加硬鍍膜 | |
| 顏色:白色,金色, 銀色, 黑色 , 蘭色等 | |
| 基本參數: |
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| 1、真空室尺寸:1210mm(直徑)×1200mm(高); | |
| 2、抽氣時間速:大氣到5×10-3Pa≤20min (空載, 冷態,潔凈); | |
| 3、zui高烘烤溫度:300℃ | |
| 4、極限真空:優于1×10-3Pa; | |
| 5、采用側面對開門方式,便于工件裝卸; | |
| 6、3只觀察窗口,左右門上各一個,室體正前方一個; | |
| 7、2臺φ400mm口徑分子泵、1臺ZJP300型羅茨泵, 2臺2X-70型機械泵抽氣; | |
| 8、一套公、自轉工轉機構,采用下驅動方式的二維平面行星機構;自轉軸20根; | |
| 9、所有驅動引入采用帶水冷套磁流體密封; | |
| 10、四對磁控濺射靶平行安裝且成圓周分布,靶材尺寸:910mm×120mm(長×寬); | |
| 11、4路進口質量流量計進氣; | |
| 12、預濺射小車擋板,控制預濺射工藝; | |
| 13、三臺30KW中頻電源及一臺30KW脈沖偏壓電源; | |
| 14、控制系統采用觸摸屏上位機(工控機)+下位機(PLC)的控制形式 | |
| 15、控制系統有手動和自動,全系統具有互保護, 泵閥互鎖。 | |
免責聲明:以上所展示的[ TSV-1200 磁控濺射鍍膜機]信息由會員[深圳市利方達科技有限公司]自行提供,內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責。