無菌去離子水(For Cell Culture)由北京百奧萊博供貨并提供相關技術服務支持，本品用于科研試驗，本品質量穩定，價位合理，需要無菌去離子水(For Cell Culture)等培養基配套試劑產品的客戶，請到我公司官網聯系我們。...

特別提示：包括無菌去離子水(For Cell Culture)在內，本公司的所有產品僅可用于科研實驗，嚴禁用于臨床醫療及其他非科研用途！

產品名稱：無菌去離子水(For Cell Culture)
產品貨號：GL0133
產品規格：100ml|500ml

用途：
去離子水，用于細胞培養

注意事項：
無菌，經高壓滅菌處理。pH值為7.3。

儲存條件：室溫，12個月

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貨號	名稱	規格
SY0622	激動素	500mg|1g
SY0627	rac-GR24 獨腳金內酯	1mg|5mg
SY0628	3-吲哚丁酸	25g|100g
SY0629	2,4-二氯苯氧基乙酸	100g|500g
GL0105	丙酮酸鈉溶液(0.1mol/L,無菌)	100ml
GL2397	通用細胞凍存液(無血清)	50ml
GL0112	無酶細胞消化液	100ml

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名稱：(+)-脫落酸
貨號：SY0619
規格：100mg|10×100mg
本品是純化的右旋脫落酸（(+)-Abscisic Acid，或S-Abscisic Acid），是天然存在且有活性的異構體。適用于植物組織培養，有效工作濃度為0.1～10 mg/L。

脫落酸（Abscisic Acid，ABA），也稱為脫落素II（Abscisin II）或休眠素（dormin），是一種天然生成的植物激素和生長調節劑，參與機體內多種生理反應，包括刺激氣孔關閉（水分脅迫加速ABA合成）；抑制幼苗生長；誘導種子合成貯藏用蛋白；抑制赤霉素誘使α-淀粉酶從頭合成的功能；影響種子休眠的發生和維持；誘導與傷口愈合相關基因轉錄的發生，特別是蛋白酶抑制劑的表達，這解釋其在病原體防御中發揮的重要作用?？偟膩碚f，脫落酸是一種調節劑，用以控制植物對各種外界刺激做出適應性反應。

中文別名：脫落素II；離層酸；休眠素；
CAS：21293-29-8
分子式：C15H20O4
分子量：264.3
外觀：白色結晶
純度：>98%
比旋光度（[α]D）：+400~420
熔點：160~165℃
溶解性：溶于乙醇，堿溶液（1N KOH或1N NaOH），微溶于水
儲存條件：-20℃
結構式：


名稱：植物組培抗菌劑
貨號：SY0624
規格：25ml|100ml
植物組織培養可以依階段區分為：一、引發愈傷組織( callus )，因為只有callus可以進行組織培養。 二、從callus誘導成根或芽。組培的方式可以分為3種：1）固體培養，將植物組織放置于固體培養基上，通常培養在玻璃瓶或塑膠瓶內。2）平板培養，將植物組織埋于固體培養基中，并且培養在培養皿。3）液體培養，將植物組織培養在液體培養基中，一般來說培養在生物反應器內，可以再細分為靜止培養、懸浮培養和漂浮培養。在整個組織培養的過程，zuì擔心的就是微生物的污染，所以用于植物組織培養的抗菌與抗真菌劑是非常必須的。

植物組培抗菌劑（Plant Preservative Mixture, PPM）是一種廣譜抗微生物劑，可以殺死細菌和真菌細胞，防止真菌孢子的萌發，并在較高濃度下能消除內源性污染的外植體。研究表明PPM活性成分可以穿透真菌或細菌細胞壁，抑制檸檬酸循環和電子傳遞鏈等中心代謝循環中的關鍵酶的活性，并且可以抑制培養基中的單糖和氨基酸向真菌和細菌細胞的運輸。PPM能有效地抑制植物細胞和植物組織培養中的通過空氣、水、人傳播的微生物污染及內源性污染，而不會影響體外種子發芽、愈傷組織增殖和愈傷組織的再生。

與普通的抗生素相比，體現在：
1）是一種廣譜、抗菌/抗真菌劑。
2）比常用抗生素價格更低廉，可以作為植物組織培養基的標準成分，并可作為常規使用。
3）因為它的靶標是抑制多種酶，所以產生抗耐藥性的突變體是不可能的。
4）具有熱穩定性，可以和培養基一起滅菌。

使用方法

以下所述的操作流程是通用的，可能需要根據待處理的特定物種稍作改動。
1）含有PPM的培養基可以在超凈臺外面分裝，即無需無菌操作，等瓊脂凝固后把蓋子蓋好。如果用泵來分裝培養基，建議在分裝前后先用高壓滅菌處理的熱水清理導管/軟管。

2）如果儲存在無菌容器或在此之前儲備液未受污染，含PPM的熱敏感或熱穩定的液體培養基無需經微孔濾膜或高壓滅菌處理。但是對于含有200 mg/L或更多氨基酸或蛋白質的富集培養基，建議加入PPM后用濾膜過濾處理。

3）超凈工作臺里的器具（鑷子或解剖刀）無需在火焰上燒，只要定期地在70%酒精里蘸一下即可。超凈工作臺無需驗證，可以在超凈工作臺外面的干凈臺面上操作，不超過一小時即可。

4）PPM溶液呈酸性，pH 3.8，需保存在4℃。低接種密度下推薦工作劑量0.05-0.2%（v/v），可在滅菌前或滅菌后加入培養基，防止通過空氣傳播污染或內源性污染。處理內源性污染或獲得無農桿菌的植物材料需要高劑量的PPM。

5）對于一些常規情況下表皮上被大量細菌或真菌孢子污染的種子來說，PPM的抗菌效率可能比較弱。對于體外萌發實驗，種子應該按照傳統的方法先用漂白劑進行表面消毒。因此，在含有PPM的萌發培養基里，在一個非滅菌的容器中種子可以在自來水下沖洗然后在超凈臺中吹干。如果所使用的器具末端接觸到活性細菌、真菌組織或其它懷疑被污染的東西，這些器具應該通過高壓或電子加熱設備進行滅菌。

6）一般劑量水平：
除了內源性污染以外，推薦劑量是0.05-0.2%。對于愈傷增殖、器官形成和胚胎形成，推薦的劑量范圍是0.05-0.075%。低接種密度或者處理緩慢生長的細菌條件下，在培養基滅菌前或滅菌后加入此劑量的PPM，可防止空氣傳播的污染和內源性污染。要消除更高密度的內源性污染，需要增加PPM的劑量（參考7-內源性污染）。

7）內源性污染
a. 對于外植體：以1cm（或更短）外植體為例，添加4~5% PPM到完全MS基礎鹽中，但千萬不要添加Tween 20和 pH調整劑，攪拌4~12小時之后直接拿出。不用清洗，直接插入含有PPM的培養基里，若是草本植物換至0.05~0.1%PPM的萌發培養基即可；而木本植物則換至0.2% PPM的萌發培養基。
注意：以下從第7段（b）到10用于觀賞植物。
b. 對于塊莖，球莖和鱗狀物：把整個塊莖/球莖/鱗狀物在漂白劑里搖或攪拌。然后用水沖洗（可以在非無菌條件下操作）。把塊莖/球莖切成小片，在含有4-5%PPM的全基鹽中搖或攪拌12-24 h，不要加pH調整劑和Tween 20。不用沖洗直接插入到含有0.1-0.2% PPM的培養基中。

8）如果按照以上操作流程沒有取得滿意的結果（尤其是厚的和非常密集的外植體、種子），我們建議按照以下流程：
a. 在水中搖或攪拌外植體（較軟的組織1h，較堅硬的組織2h）；
b. 在含有50% PPM的完全MS基礎鹽中（不加pH調整劑和Tween 20）搖或攪拌5-10 min。
c. 無需沖洗，直接把處植體插入到培養基中。如果真菌污染，可以選擇額外再加入PPM到培養基中。
然而，對于細菌或混合污染，個月在培養基中加入0.05-0.2%的PPM是必要的。不要丟棄高度氧化的外植體，因為大約50%的外植體在4-6周內即可恢復正常。

9）為了消除“組培中”污染的植物材料（搶救措施）：
注意：僅適合明顯觀察到受污染不超過一周的組織。
a. 在自來水細水流下面用牙刷清洗材料。在含有50% PPM（用滅菌水稀釋）中搖或攪拌5-15 min。對于細菌或混合污染，我們建議用低pH值2.8-3.2的溶液，即 PPM與0.6g/L的檸檬酸溶液（用滅菌水）按1：1混合。
b. 不用沖洗直接把處理好的材料插入到含有0.05-0.2% PPM的培養基里，培養至少一個月。前10天弱光培養，如上所提，不要丟棄高度氧化的外植體，等4-6周以后將約有50%的材料恢復。
對于真菌孢子或細菌位于外植體深的部位，而PPM無法接觸到的情況，需要把材料在水中浸泡一段時間，然后沿著外植體切片，在50% PPM中搖或攪拌5-15 min。通過以上消毒步驟，保證PPM能夠充分接觸到外植體的整個表面。

10）去除農桿菌：
共培養之后，用水沖洗葉盤。然后把轉染的葉盤在含有 PPM的完全基礎鹽中蘸（整個葉盤）約2 min。 用兩張無菌紙巾吸干放到含有常用抗生素的培養基上。三周后，轉到只含有0.05-0.075% PPM的培養基上。

注意事項

1）采用PPM消毒后次轉移的材料，我們建議把外植體完全地插入半固體培養基中。
2）50% PPM溶液能重復利用大約5-10次。重復利用的次數取決于所處理外植體的體積和接種密度。保存50% PPM在4℃以延長它的活性。如有必要，準備兩種PPM消毒液：一種是滅菌內源性污染，第二種是滅菌“組培中”的污染。用第二種消毒溶液處理材料后都要用0.2 μm的濾膜濾滅，濾滅過程可以非無菌條件下完成。一個濾器能用于溶液濾滅的整個過程。
3）如果用50% PPM處理材料效果仍不佳，可以用 PPM。處理方法跟50% PPM相似，但處理時間不要超過10 min。
4）PPM 的使用為任何一個組織培養實驗室帶來便利，并大地提高技術人員和實驗室的工作效率。但每個實驗室的工作條件不同可能使得PPM效力的發揮具有一定的波動性。建議工作人員根據以上步驟操作的前提下，并進行優化調整以確認PPM效力發揮的zuì佳工作條件，或者確認PPM是否能滿足其特定的應用要求。整體來說，PPM是能夠非常有效的預防植物樣本受到的空氣污染，水介質污染以及人源接觸帶來的各種污染。使用得當，PPM可以拯救內源性污染的外植體；推薦劑量（0.05-0.2%（v/v））下PPM幾乎不造成任何負面損傷。

儲存條件：4℃

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